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极紫外光刻机权威发布_极紫外光刻机概念股(2024年12月精准访谈)

内容来源：夯出奇迹所属栏目：观点更新日期：2024-11-28

极紫外光刻机

光刻机，是近两年热议的话题，很多人都在说，光刻机是中国被“卡脖子”的关键技术之一。这种神秘的机器，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，它是用来制造芯片的核心设备。一台最先进的极紫外（EUV）光刻机，市场售价高达1.2亿欧元，和一架波音737客机的价格差不多。有人开玩笑说，光刻机哪里是在刻芯片，简直就是在印钞票。而且，这么贵的东西，还不是你想买就能买。极紫外光刻机目前全球只有一家公司能生产，这就是今天要说的主角，荷兰的阿斯麦公司。2019年，阿斯麦公司的极紫外光刻机产量只有20多台，英特尔、三星、台积电等芯片生产巨头都在等着供货。中芯国际曾经在2017年下血本向阿斯麦订购了一台极紫外光刻机，但由于美国的阻挠，这台机器至今没有到货。目前，我国花在进口芯片上的钱超过了进口石油，芯片成为消耗外汇储备最多的项目。如果美国全面断供芯片，而我们又买不到最先进的光刻机，那么我们将面临没有高端芯片可用的风险。#时事热点我来评# #多的是你不知道的事#

半个世纪以来，芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话，那么，这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地，用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度，也必须越来越高，否则，你设计的“照片”再精美，印不出来，也是白搭。以目前华为的麒麟7纳米芯片为例，生产这样的芯片，要用前面说到的最先进的极紫外光刻机。它的精度要达到什么样的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。我们知道，1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。但是，极紫外光源很难制造。有大概20年的时间，光刻机所使用的光都是波长为193纳米的深紫外光，一直无法突破。直到2015年，阿斯麦才研制出了第一台极紫外光刻机。到今天，也只有阿斯麦一家公司能够生产极紫外光刻机。这就是光刻机的第一个技术难点，光源。#动态连更挑战#

俄勒冈州希尔斯伯勒英特尔代工厂的ASML高数值孔径（High-NA）极紫外光刻机

就在不久前，阿斯麦（ASML）CEO在一场国际会议上语出惊人：中国的光刻机技术落后足足10到15年！他说，没有他们家的EUV极紫外光刻机，中国几乎没法造出3-5nm工艺。大家都知道，美国可是死活不让荷兰卖这种设备给我们，这背后的弯弯绕真是够多。说实话，我觉得这事儿没那么绝对。你看，我们自己的上海微电子有限公司早就公布了新款极紫外辐射装置和相关设备。这些可都是自主研发的呀，再加上中芯国际这样的企业撑腰，咱们还怕啥呢？再聊聊华为这个逆袭王者。当初断供华为的时候，他们照样推出了麒麟9000处理器，而且现在麒麟9000s也官宣上线了。Mate60更是震撼登场，把国外那些个"看客"脸都打肿啦！余承东总能带来惊喜，说下一个Mate70会史无前例地强，你信吗？反正我信！总结一下，这就是典型的“封锁—突破”事件树：先有西方国家技术封锁→国内科研力量集结→国产创新迅猛发力。不难推理，只要我们继续坚持自研之路，那些曾经限制我们的技术壁垒迟早会被攻破，到时候可能连ASML求着把机器送过来，我们也未必稀罕哦~

德国媒体炸开了锅！上海微电子竟然在德国申请了6项EUV极紫外光刻机的关键专利，这六项专利居然还没在中国工信部披露目录里！海外媒体都慌了，分析称中国可能已经拥有更先进的EUV设备，而且可能是性能太过顶尖，所以才不便透露！这消息简直炸裂啊！𐟤ﰟ䯰Ÿ䯊德国的科技界近期被一则震撼消息引爆。上海微电子在德国申请的六项EUV极紫外光刻机专利，犹如一颗重磅炸弹，震动了全球半导体产业。这些专利不仅涵盖了光源、光学系统等关键技术，更令人惊讶的是，它们在中国工信部的专利公开目录中竟未见踪影。这一情况瞬间引发了外界的广泛猜测，关于中国在EUV技术领域是否已经实现了重大突破的讨论愈演愈烈。在半导体制造中，EUV技术被视为未来发展的核心。这项技术能够以更小的线宽和更高的集成度，推动电子产品的性能极限。如今，全球范围内的半导体竞争愈发激烈，各大科技巨头都在拼命追赶，争夺市场的主导地位。正是在这样的背景下，上海微电子的专利申请无疑让人感受到了一股强烈的竞争压力。这六项专利的具体内容涉及多个关键技术，其中包括用于EUV光源的离子束技术和基于多层反射镜的光学系统设计。这些技术的突破不仅意味着更高的光学效率，还可能为未来的芯片制造带来革命性的变化。外界对这些专利的关注，不仅仅是因为它们的技术含量，更因为它们代表了中国在这一前沿科技领域的潜在实力。德国媒体对此事的反应则充满了担忧。《商报》指出，上海微电子的专利申请可能会改变未来的半导体芯片icon制造格局，尤其是在当前全球供应链紧张的背景下。这种担忧并非无的放矢，EUV光刻机作为制造下一代半导体芯片的关键设备，其技术掌握与否直接关系到各国在科技竞争中的地位。在国际媒体的热议中，关于中国是否已经掌握了更先进EUV技术的讨论层出不穷。一些分析认为，上海微电子的专利申请可能暗示着中国在这一领域的快速进步，甚至可能已经开发出性能更优的EUV光刻机。这一信息的传递，让许多依赖EUV技术的半导体巨头感到不安，市场的紧张情绪随之上升。面对这样的局势，业内专家的声音也显得尤为重要。尽管有些专家认为，中国在EUV技术的研发上仍需时间追赶，但也有观点认为，上海微电子的专利申请显示了中国在这一领域的潜力。随着研发投入的不断增加和技术创新的推进，中国在EUV技术的竞争中或许能够占据一席之地。这样的局势引发了人们对未来科技竞争的深思。面对日益复杂的国际形势，各国在高科技领域的竞争将愈发激烈。中国的技术进步是否会打破现有的市场格局？未来的半导体行业又将如何发展？这些问题不仅关乎国家的科技实力，也与全球经济的走向息息相关。在这一背景下，上海微电子的专利申请无疑是一个引人注目的焦点。它不仅展示了中国在高科技领域的追赶步伐，也反映出全球科技竞争的加剧。在这个瞬息万变的时代，谁能够在技术上领先一步，谁就能在未来的市场中占据主动权。 #我要上热门#

这就是世界工业皇冠上的那颗宝石-光刻机的真实样子，确实看起来挺复杂也挺高级的，难怪西方老拿这玩意儿卡我们脖子。这张图片是位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒英特尔代工厂的ASML高数值孔径（High-NA）极紫外光刻机。多看看学习一下，说不定在这一领域我们很快就能超越他们！

德国媒体炸开了锅！上海微电子竟然在德国申请了6项EUV极紫外光刻机的关键专利，这六项专利居然还没在中国工信部披露目录里！海外媒体都慌了，分析称中国可能已经拥有更先进的EUV设备，而且可能是性能太过顶尖，所以才不便透露！这消息简直炸裂啊！这可不是小事，EUV光刻技术在半导体行业中可谓是“皇冠上的明珠”。想象一下，手机、电脑、甚至是我们日常使用的各种智能设备，背后都离不开这个技术的支持。简单说，EUV光刻机就像是半导体制造的“画笔”，没有它，微小的电路图案根本无法精细呈现。根据市场研究机构的数据，2022年全球EUV光刻机市场的规模已经达到了数十亿美元，未来几年还将持续增长。这次上海微电子在德国申请专利，说明他们在技术上已经走在了前面。许多人可能会想，为什么选择在德国申请，而不是在国内？其实，德国作为欧洲的科技重镇，拥有强大的知识产权保护体系，申请专利的成功率相对较高。更重要的是，德国的科技氛围和市场环境也为创新提供了肥沃的土壤。就像我们常说的“酒香不怕巷子深”，真正的技术实力，终究会在国际舞台上得到认可。与此同时，海外媒体的反应也很有意思。分析师们纷纷猜测，中国的EUV技术可能已经超越了他们的预期，甚至有些媒体直言不讳地表示“这可能是中国的一次技术逆袭”。这让人不禁想起了几年前的“芯片危机”，当时大家都在担心中国的半导体产业是否能跟上世界的步伐。而如今，随着一系列技术突破的出现，这种担忧似乎正在逐渐消散。这背后，实际上反映了一个更深层次的现象：科技的竞争不仅仅是技术本身的较量，更是国家间战略布局的博弈。我们常说“技术无国界”，但在现实中，技术的掌握与应用往往与国家的政策、市场环境和人才培养息息相关。中国在过去的十年里，加大了对半导体产业的投入，从政策支持到资金投入，几乎是全方位的扶持。根据统计，2021年中国半导体产业的投资额达到了5000亿元人民币，这个数字在全球范围内都是相当可观的。当然，技术的进步并不是一蹴而就的。正如一位半导体行业的专家所说：“技术的突破需要时间、资金和人才的积累。”而这次上海微电子的专利申请，正是这一过程的体现。它不仅展示了中国在EUV技术上的潜力，也为整个行业树立了一个新的标杆。现在，有些人可能会问，这样的消息对我们普通人有什么影响呢？其实，影响是潜移默化的。随着中国在半导体技术上的不断突破，未来我们使用的电子产品会更加便宜、性能更强。想象一下，以后买手机时，可能不再需要为高昂的价格而苦恼，更多的选择将会让我们享受到科技进步带来的红利。当然，也有一些声音在担忧，技术的迅速发展可能带来新的竞争压力，甚至引发国际间的摩擦。但从长远来看，技术的进步最终会推动全球经济的发展，造福每一个人。就像我们常说的“风雨之后见彩虹”，在竞争中不断创新，才能迎来更美好的明天。那么，大家对这个消息怎么看呢？你认为中国的半导体技术未来会如何发展？是不是也觉得这次的专利申请让我们看到了希望？欢迎在评论区分享你的想法！

由于国外制裁，给国产芯片厂释放了巨大的市场，尤其华为的供应链，塞进去了一堆国产企业，这是国产芯片崛起最大的助力。 EUV方面，双工台、极紫外光源都已经有现成的了。用于制造极紫外光刻机（LPP-EUV）光源收集器的加工母机：大型立式超精密车床。技术来源自哈尔滨工业大学的技转授权。

$大族激光 sz002008$福利：最先进的光刻机分为步进式投影光刻机和极紫外光刻机，大族激光正在同客户验证的就是其独立自主研发的步进式投影光刻机，步进式投影光刻机用途广泛且急需完成国产替代，可用于半导体分立器件等领域，与上海微电子一起助力我们的半导体产业崛

中微董事长尹志尧说，荷兰ASML研制出来的极紫外光刻机是用了20年时间，花费了大约1500亿才才研究出来的，所以这是一项很烧钱的事业，而且绝大多数的钱投进去了之后不见得有效果，真正能够成功的也寥寥无几。所以光刻机的研发是一项久久为功的项目，需要投入大量的人力物力，是急不来的。网友对此反响热烈，纷纷表达了自己的看法！有网友表示，我承认研究光刻机是不容易的！我更坚信中国自主研发出ASML目前水平的光刻机决不需要20年时间和1500亿美元的资金！也有网友表示，你还是不明白那么多的核心技术为什么让中国人攻克了，归根结底还是因为辩证法起源于中国，只要明白了原理，技术上就没有不能突破的，关键是我这个观点已经让中国科学家无数次证明了。还有网友表示，你搞错了，不是荷兰一个国家开发的，是以美国为首的几十个西方国家联合开发的，最终还是美国说了算。不得不说，尹志尧说的是大实话，科技发展靠的是人才和经济，一步一个脚印，时光不会辜负你们的努力。

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